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说明：半导体、FPD制造流程越发要求精细化、高性能化，半导体硅电路板的清洗在各种加工工序中变得非常重要。氢氟酸具有蚀刻、除去硅氧化膜的特质，因此在半导体硅电路板的清洗流程中也是不可或缺的精细加工技术。由于现在的多段清洗工序中需要用到稀氢氟酸进行最终清洗，半导体的湿蚀刻工序对氢氟酸也要求很高的洁净度。清洗对氢氟酸洁净度要求极高的设备构件也需要用到超高纯度的氢氟酸。

另外，半导体、FPD制造工序，超高纯度药剂不仅能去除氧化膜，而且能在抑制粒子附着、晶片表面的粗糙度等，达到各种对清洗性、功能性的要求。为此，我公司一直致力于对各种超高纯度电子化学品进行研发及销售。

包装：加仑瓶，20公斤、25公斤聚乙烯桶，200公斤压力容器，

1000公斤IBC桶，20吨TANK罐。

联系人：朱义坤：130-6948-8833

孙 明：185-3018-7110

辛凯明：199-3918-1150

说明：我司所生产的电子级硝酸主含量70±0.5%，氯化物≤20ppb，磷酸盐≤50ppb，硫酸盐≤50ppb，铝、钠、钾离子≤0.05ppb，其他金属杂质离子≤0.03ppb，颗粒（≥0.1μm）≤25个/ml。

包装:200公斤压力容器,1000公斤IBC桶，20吨TANK罐

联系人：朱义坤：130-6948-8833

说明：我司所生产的电子级氨水主含量（28.5-29.5）%，单个杂质金属离子含量≤10ppt，硫酸根≤20ppb，磷酸根≤10ppb，颗粒(≥0.1μm)≤25个/ml。

包装:200公斤压力容器,1000公斤IBC桶，20吨TANK罐

联系人：朱义坤：130-6948-8833

说明：电子级氟化铵是一种用于半导体制造工艺中的重要原材料。它可被用作高纯度氟离子源和可控的淀积源，帮助调节氟离子浓度和控制膜厚度，因此可用于生产半导体器件中的绝缘层材料、金属反应物、填充材料和电极所需材料等。电子级氟化铵在半导体和相关产业中具有广泛的应用，是现代科技生产中不可或缺的原材料之一。在使用时需要注意采用纯度较高的电子级产品，避免影响半导体器件的性能和可靠性。

包装:200公斤压力容器,20吨TANK罐

联系人：朱义坤：130-6948-8833